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無錫硅晶片清洗超純水設備|電鍍清洗純水設備 

^{無錫硅晶片清洗超純水設備|電鍍清洗純水設備}

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一、硅晶片清洗超純水設備

1、采用離子交換樹脂制備硅晶片清洗超純水設備的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

3、采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備硅晶片清洗超純水設備的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經濟，發(fā)展?jié)摿�巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

二、硅晶片清洗超純水設備應用領域

1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。

2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水。

3、實驗室和中試車間用超純水。

4、汽車、家電表面拋光處理。

5、光電子產品。

6、其他高科技精微產品。